گروه فناوری الکترونیک آیشنگنا شانگهای سازنده اولین ابزارهای لیتوگرافی DUV غوطهوری داخلی چین معرفی شد — اولین اسکنر داخلی قابل استفاده با توانایی ۷ نانومتر تا سال ۲۰۳۸ تکمیل می‌شود

شرح خبر

رویتز گروه فناوری الکترونیک آیشنگنا شانگهای را به عنوان سازنده دولتی اولین اسکنرهای لیتوگرافی فرابنفش عمیق غوطهوری (DUV) داخلی چین معرفی کرد. این شرکت در اوت ۲۰۲۳ با سرمایه ثبت‌شده ۷ میلیارد RMB (حدود ۱ میلیارد دلار) تأسیس شد و به نظر می‌رسد تیم‌های مهندسی شرکتهای شانگهای یولیانگشنگ تکنالوجی و Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) را جذب کرده باشد. SMIC از سپتامبر ۲۰۲۵ در حال تست ابزار غوطهوری Yuliangsheng بوده و اولین تحویل‌ها برای SMIC، Hua Hong Semiconductor و ChangXin Memory Technologies (CXMT) برنامه‌ریزی شده است. این اسکنرها قادر به پشتیبانی از فرآیندهای ۷ نانومتری خواهند بود و تکمیل آنها تا سال ۲۰۳۸ پیش‌بینی می‌شود. این خبر در حالی منتشر می‌شود که چین در تلاش برای کاهش وابستگی به فناوری‌های خارجی در صنعت نیمه‌هادی است. گروه آیشنگنا شانگهای به عنوان سازنده اولین اسکنرهای لیتوگرافی DUV غوطهوری داخلی چین معرفی شد. این شرکت با سرمایه ۷ میلیارد RMB تأسیس شده و تیم‌های مهندسی SMEE و Yuliangsheng را جذب کرده است. اسکنرهای تولیدی قادر به پشتیبانی از فرآیند ۷ نانومتر خواهند بود و تکمیل آنها تا سال ۲۰۳۸ پیش‌بینی می‌شود. SMIC از سپتامبر ۲۰۲۵ در حال تست ابزارهای Yuliangsheng است و تحویل‌های اولیه به SMIC، Hua Hong Semiconductor و CXMT برنامه‌ریزی شده است. تأمین‌کنندگان چینی کمتر از ۱ درصد از مقاومتهای غوطهوری ArF را در اختیار دارند و چین در حوزه‌های اپتیک دقیق و منابع نوری هنوز به واردات وابسته است. این خبر اهمیت استراتژیک بالایی برای صنعت نیمه‌هادی چین دارد، زیرا نشان‌دهنده گامی بزرگ در جهت خودکفایی در فناوری لیتوگرافی است. اسکنرهای DUV غوطهوری برای تولید تراشه‌های پیشرفته ۷ نانومتری ضروری هستند و تکمیل آنها تا سال ۲۰۳۸ می‌تواند وابستگی چین به شرکت‌های خارجی مانند ASML را کاهش دهد. علاوه بر این، این پیشرفت می‌تواند به تقویت زنجیره تأمین داخلی و کاهش فشارهای ژئوپلیتیکی بر صنعت نیمه‌هادی چین کمک کند. تولید اسکنرهای DUV داخلی می‌تواند هزینه‌های تولید تراشه را برای شرکت‌های چینی مانند SMIC و CXMT کاهش دهد و آنها را از محدودیت‌های صادراتی آمریکا و اتحادیه اروپا کمتر آسیب‌پذیر کند. این امر همچنین می‌تواند فرصت‌های جدیدی برای تأمین‌کنندگان محلی مواد و تجهیزات ایجاد کند و رشد صنعت نیمه‌هادی چین را تسریع بخشد. ایران می‌تواند از تجربیات چین در توسعه فناوری‌های داخلی لیتوگرافی برای تقویت صنعت نیمه‌هادی خود استفاده کند. این خبر ممکن است الهام‌بخش برای سرمایه‌گذاری در تحقیق و توسعه فناوری‌های مشابه در ایران باشد، هرچند که چالش‌های فنی و مالی زیادی در این راه وجود دارد. توسعه اسکنرهای DUV داخلی می‌تواند به چین کمک کند تا محدودیت‌های قانونی و تحریم‌های بین‌المللی را دور بزند و دسترسی به فناوری‌های حساس را تضمین کند. این امر همچنین می‌تواند به تغییر در قوانین صادراتی و مالکیت فکری در سطح جهانی منجر شود. چین با توسعه اسکنرهای DUV داخلی در تلاش است تا وابستگی خود به فناوری‌های غربی را کاهش دهد و در برابر فشارهای ژئوپلیتیکی مقاوم‌تر شود. این امر می‌تواند تنش‌های تجاری و فناوری بین چین و کشورهای غربی را تشدید کند. Tom's Hardware آیشنگنا شانگهای سازنده اولین اسکنرهای لیتوگرافی DUV غوطهوری داخلی چین شد. تکمیل اسکنر ۷ نانومتری تا ۲۰۳۸ و تأثیر آن بر صنعت نیمه‌هادی.

این صفحه خلاصه و تحلیل فارسی خبر را نمایش می‌دهد. نسخه کامل/اصلی از طریق لینک منبع در دسترس است.