چین گامی بزرگ در خودکفایی لیتوگرافی: اولین اسکنر DUV غوطهوری داخلی
گروه آیشنگنا شانگهای به عنوان سازنده اولین اسکنرهای لیتوگرافی DUV غوطهوری داخلی چین معرفی شد. این شرکت با سرمایه ۷ میلیارد RMB تأسیس شده و تیمهای مهندسی SMEE و Yuliangsheng را جذب…
آخرین اخبار، تحلیلها و تحولات مرتبط با لیتوگرافی در Titr Tech.
گروه آیشنگنا شانگهای به عنوان سازنده اولین اسکنرهای لیتوگرافی DUV غوطهوری داخلی چین معرفی شد. این شرکت با سرمایه ۷ میلیارد RMB تأسیس شده و تیمهای مهندسی SMEE و Yuliangsheng را جذب…
معیار ریلی فرمولی است که کوچکترین ابعاد قابل چاپ روی تراشه (CD) را با استفاده از طول موج نور (λ)، دهانه عددی اپتیک (NA) و ضریب k1 تعیین میکند. حد فیزیکی این معیار k1=0.25 است. شر…
فرایند ساخت تراشه شامل صدها مرحله است و میتواند تا چهار ماه طول بکشد. تراشههای مدرن تا ۱۰۰ لایه دارند که باید با دقت نانومتری همپوشانی شوند. ماشینهای EUV و DUV ASML برای لایهها…
چین در حال پیشرفت در ساخت ماشینهای لیتوگرافی DUV برای تولید تراشه است، فناوری که پیش از این وابسته به واردات بود. این پیشرفت باعث افت هفت درصدی سهام ASML در یک روز شد. با این حال،…
ایاسامال، شرکت پیشرو در تولید تجهیزات لیتوگرافی، فلسفه نوآوری خود را بر پایه همکاری و اعتماد با شرکا و مشتریان بنا نهاده است. این شرکت با رویکرد «نوآوری باز» و سرمایهگذاری سنگی…
چین تولید ابزارهای بومی ساخت تراشه با فناوری DUV را آغاز کرده است. این فناوری برای تولید تراشههای پیشرفته ضروری است و تا پیش از این، چین به واردات این ابزارها از کشورهای غربی وابس…
چین تولید انبوه دستگاههای لیتوگرافی DUV غوطهوری بومی را آغاز کرده و اولین دستگاهها را امسال به SMIC، Hua Hong و CXMT تحویل خواهد داد. هدف تولیدی پنج دستگاه در ۲۰۲۶ و بیست دستگاه …
چین با پیشرفت شرکتهایی مانند CXMT و YMTC در صنعت تراشههای حافظه، اکنون قادر به دیکته کردن قیمتها برای غولهای جهانی است. این شرکتها با عقد قراردادهای میلیاردی با شرکتهایی چون با…
شرکت ASML در نظر دارد قیمت دستگاههای لیتوگرافی Low-NA EUV خود را افزایش دهد، تصمیم که TSMC را ناراضی کرده است. روجر داسن، مدیر مالی ASML، اعلام کرد که این افزایش قیمتها به زودی م…
ASML با استفاده از فناوریهای مکانیکی و مکاترونیک پیشرفته، ماشینهای لیتوگرافی را توسعه داده که میزهای ویفر با شناوری مغناطیسی در آنها با شتابی تا ۷g حرکت میکنند. سنسورهای این سیس…
سیستمهای لیتوگرافی ایاسامال از عدسیها در DUV و آینهها در EUV برای کاهش تصویر تا سطح نانومتری استفاده میکنند. دقت نانومتری در قرارگیری اجزا برای کیفیت تصویر ضروری است. دهانه عدد…
ASML در طول تاریخ خود، با نوآوری در تولید نور برای لیتوگرافی، از لامپهای بخار جیوه با طول موج ۴۳۶ نانومتر شروع کرد و به تدریج به لیزرهای اگزایمر و فناوری EUV با طول موج ۱۳.۵ نانوم…
شرکت ASML اعلام کرد که کارخانه اینتل تولید انبوه پردازندههای سری Intel Core Ultra Series 3 (نام کد: Panther Lake) را با فناوری High NA EUV آغاز کرده است. این پردازندهها بر پایه ف…